10月28日至11月4日，我院数字制造装备与技术国家重点实验室陈蓉教授前往美国参加在佛罗里达州坦帕市举办的“第64届美国真空学会国际研讨及展览会(AVS 64th International Symposium & Exhibition)”。参会期间，陈蓉老师作了题为“Area Selective Atomic Layer Deposition via Precursor Selective Adsorption: Theory, Strategy, and Applications in Catalysis(通过前驱体选择性吸附实现区域选择性原子层沉积：理论、策略及在催化中的应用)”的受邀报告，阐述了前驱体吸附能对金属氧化物选择性原子层沉积的影响，引发了热烈讨论。
本次会议旨在提供先进制造、先进材料等领域高质量的专业互动，为与会代表提供了面对面交流和学习机会。大会主题涵盖了真空科学、微纳制造、先进表征等多个方面，涉及到的内容包括薄膜技术、原子层沉积及其应用、等离子体和多相催化剂等。本次会议上，陈蓉教授除进行了专题汇报之外，还与参会人员进行了有关原子层沉积方面的技术交流，深入了解了国外原子层沉积领域的发展现状。
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