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摆设备闭第二代原子层沉积系统

作者:编辑:发布:2016-04-05点击量:

中文名称:

第二代原子层沉积系统

英文名称

The Second Generation of Atomic Layer Deposition

仪器编号:

 

仪器型号:

RH-200

生产厂家:

自搭

放置位置:

柔性电子制造实验室

  功能介绍    

原子层沉积设备利用两种/多种不同前驱体交替通入至腔体内部并依次反应,在给定基底上沉积原子层级别薄膜。设备包含RV12真空泵, YDS-10液氮容器,ALD阀门,前驱体钢瓶,气动角阀,气体质量流量计以及管路及加工腔体。

&苍产蝉辫;技术特点:

1.沉积非均匀性 非均匀性<±1%。

2.最大φ4英寸基板,可容纳多片其他规格样品同时沉积。

3.最大可容纳四种前驱体源同时工作。

4.生长模式 连续和停留沉积模式任意选择。

5.控制系统 PLC+显示器。

6.ALD阀 Swagelok快速高温ALD专用阀。

  主要技术参数&苍产蝉辫;

·载气流量控制:100-500 sccm

·基板加热温度:25~200℃

·本底真空: <3x10-1Torr,进口防腐泵

·载气系统: N2

·电源: 50-60Hz,220V/20A交流电源

  应用范围&苍产蝉辫;

单一前驱体以及多种前驱体的原子层沉积镀膜。

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