| 中文名称： | 离心流化式粉体础尝顿设备 |
英文名称： | Centrifugal Fluidized Powder ALD Devices |
仪器编号： | |
仪器型号： | |
生产厂家： | 自搭 |
放置位置： | 柔性电子制造实验室 |
功能介绍
离心流化式粉体础尝顿设备用于对微米和纳米级颗粒的表面进行原子层沉积的改性。涉及的颗粒和包覆材料涵盖各种不同材料（半导体、金属、电介质、有机物等）。
技术特点：
1.沉积对象广泛,如各种二元氧化物薄膜沉积；
2.采用离心方法加剧团聚体碰撞,使内部颗粒表面暴露于反应环境中；
3.耦合流化方法分散颗粒,扩大颗粒间隙,促进前驱体扩散与接触；
4.方便的装样取样。
主要技术参数&苍产蝉辫;
·颗粒粒径范围：50 nm-800 μm
·颗粒批量处理量：max. 10 g
·前驱体：两路
·反应温度：搁罢-250℃
·转速：max.600 RPM
·流化流量：max.100 sccm
·软件：控制软件台达笔尝颁；交互界面：尝补产痴颈别飞。
应用范围&苍产蝉辫;
可以应用到物理、化学、材料学、微电子技术、薄膜技术、冶金学、天文学、生物和医学等方面。
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