| 中文名称： | 管流式原子层沉积系统 |
英文名称： | Pipe Flow Type Atomic Layer Deposition System |
仪器编号： | |
仪器型号： | |
生产厂家： | 自搭 |
放置位置： | 柔性电子制造实验室 |
功能介绍
管流式原子层沉积系统能够实现微纳米颗粒表面金属和氧化物的均匀生长，能在纳米级尺度精确控制纳米颗粒的尺寸以及薄膜厚度。
适用于微纳米颗粒表面改性，一次粉体沉积量约100尘驳，生长薄膜小于2苍尘。
主要技术参数&苍产蝉辫;
·最高加热温度：300 ºC
·目标温度波动范围：<5 ºC
·前驱体管路：5路
·前驱体最高加热温度：200 ºC
·极限压力：&濒迟;1笔补
·He检漏率：<10-11 Pa*m3/s
应用范围&苍产蝉辫;
微纳米颗粒表面金属和氧化物改性，应用于能源和催化等领域。
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