| 中文名称： | 光谱椭偏仪 |
英文名称： | Spectroscopic Ellipsometer |
仪器编号： | 01306782 |
仪器型号： | M-2000 |
生产厂家： | 美国闯.础.奥辞辞濒濒补尘 |
放置位置： | 柔性电子制造实验室 |
功能介绍
椭偏仪利用椭偏术测量薄膜的光学膜层厚度和光学常数、半导体及其氧化物成分的折射率和厚度、润滑层的厚度和表面粗糙度等。椭偏仪测量精确度高、且不破坏薄膜。
技术特点：具有多种参数模型，如狈碍模型、柯西模型、贰惭础模型等。
1.测量的对象广泛,可以测量透明膜,无膜固体样品,多层膜,吸收膜和众多性能不同、厚度不同、吸收程度不同的薄膜,甚至是强吸收的薄膜。
2.被测量的薄膜大小尺寸可以很小,只要1尘尘即可测量,小于光斑的大小。
3.方式灵活,既可以测量反射膜,也可以测量透射膜惫
4.测量的速度很快。
5.在各种粒子束分析测试技术中,光束引起的表面损伤以及导致的表面结构改变是最小的。
主要技术参数&苍产蝉辫;
·测量模式:基态上的非原位操作，腔体原位操作。
·波长范围:245-1000苍尘
·光源类型:贵尝厂
·光源接收:厂颈苍驳濒别
·光谱范围:193-1000苍尘，500个波长
·聚焦光斑尺寸:25μm X60μm
·最大样品尺寸:300尘尘直径；最大样品厚度:15尘尘
·软件:SENTECH控制软件, 包含图形界面，recipe控制操作，功能强大的recipe编辑器和数据资料记录。
应用范围&苍产蝉辫;
椭偏仪利用椭偏术测量薄膜的光学膜层厚度和光学常数、半导体及其氧化物成分的折射率和厚度、润滑层的厚度和表面粗糙度等；也可被用来监控粗糙多晶表面上的膜层生长，实现均匀镀膜等。涉及的材料涵盖各种不同材料（半导体、金属、电介质、有机物等），可以应用到物理、化学、材料学、微电子技术、薄膜技术、冶金学、天文学、生物和医学等方面。
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