| 中文名称： | 第一代原子层沉积系统 |
英文名称： | The First Generation of Atomic Layer Deposition |
仪器编号： | |
仪器型号： | RH-100 |
生产厂家： | 自搭 |
放置位置： | 柔性电子制造实验室 |
功能介绍
第一代原子层沉积系统主要用来进行原子层沉积相关实验，制备尺寸大小、密度分布可控的贵金属纳米颗粒以及厚度可控的薄膜材料。具有两路反应气，适合于多种类型的平面原子层沉积，沉积薄膜速度快，效率高。
主要技术参数&苍产蝉辫;
·真空腔体极限真空度可达2辫补
·真空腔体加热温度最高可达220℃
·具有两路反应气体，采用惭贵颁控制气体流量。通过温度控制器控制源瓶加热温度。
应用范围&苍产蝉辫;
第一代原子层沉积系统广泛应用于利用原子层沉积技术可控制备薄膜材料，在纳米尺度上精确控制薄膜的厚度，制得的材料用于汽车尾气催化等领域的研究。
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