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| 中文名称： |
磁控溅射镀膜系统 |
英文名称： |
Magnetron sputtering coating system |
仪器编号： |
01611678 |
仪器型号： | TRP-450 |
生产厂家： |
中国科学院沉阳科学仪器有限公司 |
放置位置： | 柔性电子制造实验室 |
功能介绍
磁控溅射是物理气相沉积(Physical
Vapor Deposition，PVD)的一种。实现了高速、低温、低损伤，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜，可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜等。
主要技术参数
·溅射室极限真空度：≤6.6虫10-6笔补(经烘烤除气后)
·溅射室中配有3套国产60mm高性能永磁共焦磁控溅射靶，各靶可独立/顺次/共同工作，磁控靶RF、
DC、 MF兼容，可以溅射磁性材料，磁控靶配有进口SMC气动挡板结构。
·放置最大4英寸样品1片
·加热温度：室温～600°颁
·二路控制进气系统（Ar、O2），流量分别为100SCCM、
20SCCM。
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