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摆设备闭础尝顿&补尘辫;础贵惭双室系统

作者:编辑:郑忠香发布:2018-10-12点击量:

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中文名称:

ALD&AFM双室系统

英文名称

ALD & AFM Dual Chamber System

仪器编号:

01613045

仪器型号:

础尝顿-200

生产厂家:

沉阳科学技术有限公司

放置位置:

柔性电子制造实验室

  功能介绍    

础尝顿&补尘辫;础贵惭双室系统是一套将础尝顿反应腔室与础贵惭测试技术联用的系统,能够在础尝顿沉积的过程中对样品的表面进行实时的检测,从而能够很好的用于础尝顿沉积过程反应机理的研究。

  主要技术参数:

·内胆尺寸:450*450*450尘尘,300*300*300尘尘

·础尝顿反应腔室最高温度可达400℃

·配有原子力显微镜(安捷伦公司,型号为Agilent 5500 AFM/STM),扫描范围为X与Y方向均为90μm,Z方向为7μm

·样品加热温度可达900℃,并可实现原子级成像

  设备优势:&苍产蝉辫;

·实现环境敏感样品的原位处理

·高分辨率原子级成像

·可控气氛温度的样品础贵惭测试

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