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中文名称： |
层析穆勒矩阵散射仪测量实验平台 |
英文名称： |
Measurement experimental platform for tomographic Muller matrix scatterometer |
仪器编号： |
02180093 |
仪器型号： |
PTMMS-01 |
生产厂家： |
自研 |
放置位置： |
先进制造大楼东楼奥102集成电路测量装备研究中心 |
功能介绍
通过将光谱型穆勒矩阵椭偏仪与散射场测量技术相结合，同时借鉴并引入科勒照明与光学层析原理，使仪器具有宽光谱、多入射角层析、全穆勒矩阵测量能力，并提供傅里叶（即散射场）测量模式，实现多层光刻图形套刻误差测量，验证并完善相关理论与方法。应用于光刻胶光学特性表征、多层光刻图形套刻标记的光学散射场测量等。
主要技术参数
（1）层析穆勒矩阵散射场建模计算与测量能力；
（2）套刻标记大小：160μm × 160μm；
（3）测量波长范围：450nm ～ 700nm；
（4）入射角层析范围：-67°～ 67°；
（5）方位角层析范围：0 ～ 360°；
（6）散射场收集范围：-60°～ 60°；
（7）套刻误差重复性测量精度：0.2nm (3σ)；
（8）单点测量速度：≤ 1s。
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