刘佳敏

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刘佳敏

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个人介绍

刘佳敏，1994年生，博士，华中科技大学在站博士后。于2020年获华中科技大学工学博士学位。2020年至今在华中科技大学智能制造装备与技术全国重点实验室从事博士后研究。主要研究方向包括原位穆勒矩阵椭偏测量方法、滨颁制造在线测量检测技术等，先后参与国家杰出青年科学基金项目、国家自然科学基金重点项目等。
入站时间：2020年10月
所在团队：纳米光学测量
合作导师：刘世元教授

研究方向

原位穆勒矩阵椭偏测量方法、滨颁制造在线测量检测技术

开设课程

科研项目

[1] 国家自然科学基金重点项目：EUV光刻掩模缺陷原波长叠层衍射检测理论与方法研究（52130504），项目骨干，2022-2026。
[2] 国家杰出青年科学基金项目：机械测试理论、方法与技术（51525502），项目骨干，2016-2020。
[3] 国家自然科学基金青年基金：晶圆缺陷的形序双折射成像椭偏超灵敏检测理论与方法（52305577），主持，2023-2026。

论文专着与专利

代表性论文：
[1] J. Zhu, J. Liu, T. Xu, and et al. Optical wafer defect inspection at the 10 nm technology node and beyond. International Journal of Extreme Manufacturing, 2022, 4: 032001.

[2] J. Liu, W. Gong, L. Li, and et al. Longitudinal magneto-optical Kerr effect in subwavelength thick ferromagnetic films investigated by Mueller matrix ellipsometry. Optics and Lasers in Engineering, 2023, 171: 107803.

[3] J. Liu, Z. Jiang, S. Zhang, and et al. Calibration of polarization effects for the focusing lens pair in a micro-spot Mueller matrix ellipsometer. Thin Solid Films, 2023, 766: 139656.

[4] J. Liu, H. Jiang, L. Zhang, and et al. Thickness dependent native oxidation kinetics of Cu films observed by ellipsometry. Applied Surface Science, 2020, 518: 146236.

[5] J. Liu, M. Wang, H. Jiang, and et al. Annealing temperature dependency of optical and structural properties for Cu films. Physical Review B, 2020, 101: 014107.

荣誉获奖

[1] 2021年湖北省博士后创新岗
[2] 2022 IJEM最佳论文奖
[3] 2018全国光机电技术及系统学术会议学生优秀报告奖

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